高纯度摘要
TMAL IC是原子层沉积（ALD）工艺的铝前体。
产品名称
TMAl集成电路化学家庭
高纯度摘要CAS号码
75-24-1身体形态
液体化学名称
Trimethylaluminum分子量
72.1应用程序
对于硅半导体应用中的原子层沉积(ALD)，我们提供我们的TMAL IC级。这个等级提供ppb水平的微量金属规格。我们的三甲基铝是提供在罐(圆筒)由不锈钢和电抛光内部完成。气缸配备手动或气动隔膜阀。阀门配备金属垫圈vcr连接。
细分市场
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