高纯度金属有机体
TMAL LO是铝前体，用于沉积化合物半导体，特别是合成以满足超低氧要求。
产品名称
tmal lo.化学家庭
高纯度金属有机体化学文摘号
75-24.1.物质形态
液体化学名称
三甲基铝分子量
72.1应用程序
对于非常氧敏感的应用，我们有一个独特的成绩，以满足您的苛刻应用程序。我们的特殊级TMAL LO具有低于1ppm氧气的氧气规范。TMAL LO是许多客户的首选等级，用于激光二极管，传感器（VCSEL），集中光伏电池（CPV），功率半导体器件（SI上GAN）和磷化物LED等应用。我们的三甲基铝供应在由不锈钢制成的罐（圆柱体）中提供，具有电抛光内饰。气缸配有手动或气动隔膜阀。阀门配有金属垫圈VCR连接。
细分市场
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